半导体制造中常用化学品

半导体制造中常用化学品半导体制造过程中常用的酸名称符号用途氢氟酸HF刻蚀二氧化硅（SiO2）以及清洗石英器皿盐酸HCl湿法清洗化学品，2号标准清洗液的一部分，用来去除硅中的重金属元素硫酸H2SO4“p