双层辉光离子渗钨及其后热处理工艺的研究
双层辉光离子渗钨及其后热处理工艺的研究摘要本文研究了双层辉光离子渗钨及其后热处理工艺的影响。实验结果表明,在400℃、1h热处理后的样品表现出了良好的钨扩散效果和致密的涂层结构。同时,热处理过程中样品
双层辉光离子渗钨及其后热处理工艺的研究