精选太阳能电池关键工艺流程介绍

晶体硅太阳电池制造关键工艺表面化学处理目的:※去除硅片表面由于切割而产生的机械损伤层,正反二表面各约10m;※在硅片表面形成尖峰高度3~6m四方锥体绒面,间接增加电池对入射太阳光的吸收;※清除硅片表面

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