面向三维多栅器件的高K介质与金属栅工艺研究

面向三维多栅器件的高K介质与金属栅工艺研究随着集成电路制造技术的不断改进,三维多栅器件已成为新一代芯片中的重要组成部分。高K介质与金属栅技术是实现三维多栅器件的关键技术之一。本文主要探讨高K介质与金属

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