193nm氟化物高反膜研究

193nm氟化物高反膜研究摘要：本文研究了193nm氟化物高反膜技术的相关问题。通过对氟化物高反膜技术的常见材料、制备方法、成膜性能参数的介绍和分析，结合目前应用的现状进行了深入剖析和阐述。结论表明：