CMP中铜的碟形缺陷的研究

CMP中铜的碟形缺陷的研究CMP中铜的碟形缺陷的研究摘要：CMP（化学机械抛光）技术在半导体工业中的应用越来越广泛，然而其中存在着一些问题，其中之一就是铜的碟形缺陷。该缺陷严重影响着芯片的质量，因此研