基于卷积神经网络的化学机械研磨模型和图形效应研究的任务书

基于卷积神经网络的化学机械研磨模型和图形效应研究的任务书一、任务背景与研究意义化学机械研磨（Chemical Mechanical Polishing，CMP）在半导体工艺中广泛应用，能够实现高精度、