Ta及TaN薄膜的制备与电学性能研究

Ta及Ta-N薄膜的制各‘j电学性能研究 摘 要 在N2／Ar气氛中，采用反应直流磁控溅射方法在A1203陶瓷和玻璃基底上制 备了Ta．N薄膜，对比研究了不同基底、工艺参数及热处理工艺对Ta—N薄膜微