193纳米光阻等离子体固化工艺研究

193纳米光阻等离子体固化工艺研究引言193纳米光阻是一种应用于半导体制造过程中的重要材料。光阻是指一种能够通过光学成像后进行刻蚀的材料，通常用于半导体器件的图案化制造。光阻的材料化学和物理特性对于制