VLSI制造中物理气相淀积工艺的优化及其相关研究的综述报告

VLSI制造中物理气相淀积工艺的优化及其相关研究的综述报告物理气相淀积（PVD）工艺是一种常用的VLSI制造技术，广泛地应用于 集成电路、光电子器件等的制造过程中。在这个工艺中，通过将金属、合金等材料