离子束辅助淀积条件下CuSi系统相变化研究
离子束辅助淀积条件下CuSi系统相变化研究离子束辅助淀积(IBAD)技术是一种新型的薄膜制备方法,通过利用高能离子束对靶材进行轰击,使靶材中原子和离子释放出来并沉积在基底上,形成具有特殊性质与结构的薄
离子束辅助淀积条件下CuSi系统相变化研究