F薄膜的制备方法离子束溅射CVD

- 3. 优点： •膜层致密、均匀、减少缺陷 •提高薄膜性能的稳定性（不易吸附气体 或潮气） •附着好（界面有膜料粒子渗入） •可分别独立调节各实验参数、控制生