磁控溅射方法制备铜薄膜实验

磁控溅射方法制备铜薄膜实验 一、实验目的 1．掌握物理气相沉积的基本原理，熟悉磁控溅射薄膜制备的工艺； 2．掌握磁控溅射镀膜设备的结构和原理。二、设备仪器 磁控溅射薄膜沉积台结构如图1所示。 图1 磁