荷能Xe离子注入SiC中缺陷和力学性能演化行为的研究的综述报告

荷能Xe离子注入SiC中缺陷和力学性能演化行为的研究的综述报告荷能气体离子注入技术被广泛应用于SiC器件的制造中，其主要作用是通过引入样品中的缺陷来改变其电学和力学性能。Xe离子是一种常用的注入离子，