微纳加工工艺流程纲要

高通量微流控器件的设计与加工罗春雄掩模的制作掩模的制备是光刻中的重点步骤之一，其作用是在一个平面上有选择性的阻截紫外光的经过，进而实现光刻胶的局部曝光。掩模的图形及尺度由计算机设计达成，常用的设计软件