SU-8光刻胶加工工艺及应力梯度研究

SU-8光刻胶加工工艺及应力梯度研究韦剑何万益陆颖颖 南京邮电大学通达学院摘要：文章釆用牺牲层刻蚀技术加工SU-8胶MEMS微结构，BP212正性光刻胶作为牺牲 层，SU-8胶作为结构层。制造出的SU