基于28nm产品的缺陷分析及良率提升的开题报告

基于28nm产品的缺陷分析及良率提升的开题报告一、题目背景随着半导体工艺的不断提升，集成电路的产品也越来越先进。而在制造过程中，缺陷是难以避免的，对于28nm工艺的产品生产而言，如何对缺陷进行分析和控