高性能193nm光学薄膜的制备与性能研究

高性能193nm光学薄膜的制备与性能研究摘要随着半导体工艺日益发展，对高性能193nm光刻技术的需求越来越高。光刻中的光学薄膜是其中不可或缺的一部分，其性能直接决定了光刻的质量和效率。本文将介绍高性能