反向光刻技术和版图复杂度研究的开题报告

反向光刻技术和版图复杂度研究的开题报告一、选题背景随着信息技术的飞速发展，集成电路 (Integrated Circuit, IC) 设计的复杂性呈现指数级增长。在 IC 制造中，光刻技术是其中的核心