磁约束磁控溅射源工作特性及沉积速率的分析

磁约束磁控溅射源工作特性及沉积速率的分析()西安工业大学 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 ,西安 710032 摘 要 : 为了提高靶材的利用率 ,将磁约束原理应用于磁控溅射技术中 . 采用直流矩