磁控溅射法制备TI-Si0-N薄膜及其性能研究

磁控溅射法制备TI-Si0-N薄膜及其性能研究磁控溅射法制备Ti-Si0-N薄膜及其性能研究摘要本文采用磁控溅射法制备了一系列不同比例的Ti-Si0-N薄膜,并通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微

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