半导体表面平坦化及新型高性能湿式清洗工艺的研究的任务书

半导体表面平坦化及新型高性能湿式清洗工艺的研究的任务书一、研究背景随着微电子制造技术的不断发展，半导体器件的制造工艺变得越来越复杂，其中表面平坦化和湿式清洗是两个非常关键的工艺环节。表面平坦化技术是一