半导体设备之离子注入机行业研究

半导体设备之离子注入机行业研究   一、离子注入是可实现数量及质量可控的掺杂离子注入是最重要的掺杂方法掺杂改变晶圆片的电学性能。由于本征硅（即不含杂质的硅单晶）的导电性能很差，只有当硅中加 入适量杂质