90纳米逻辑工艺中CTW-CMP研磨时间稳定性的改善的开题报告

90纳米逻辑工艺中CTW-CMP研磨时间稳定性的改善的开题报告1.研究背景90纳米逻辑工艺是当前半导体技术的主流，在制造过程中，涉及到复杂的研磨工艺。其中，CTW-CMP研磨技术是一种重要的工艺手段。