《D磁控设备方案》doc版

JGP560D型超高真空多靶磁控溅射镀膜系统一﹑主要技术性能指标1. 真空室结构及尺寸1.1 本系统为带有空气锁的三室结构的溅射系统，即由多层膜溅射室﹑离子溅射室、进样室（或称样品予处理室）和磁力进