第4章IC工艺之离子注入ppt课件

- 问题的提出：短沟道的形成？GaAs等化合物半导体？（低温掺杂）低表面浓度？浅结？纵向均匀分布或可控分布？大面积均匀掺杂？高纯或多离子掺杂？ - 要求掌握：基本工艺流