dcvd hdp工艺在半导体制造中的应用和改善

DCVD HDP 工艺在半导体制造中的应用和改善摘 要本课题主要以介电质化学气相淀积(DCVD)工艺为基础，以高密度 等离子体 CVD(HDPCVD)作为研究对象，对其中出现的浅沟槽绝缘层 钥匙孔缺陷