具有离子可调的兼性离子涂层及其共沉积一步式制备方法及其应用
(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 CN 115926507 A(43)申请公布日 2023.04.07(21)申请号 202211421723 .X(22)申请日 2022
具有离子可调的兼性离子涂层及其共沉积一步式制备方法及其应用