高纯钽溅射靶材制备工艺进展

高纯钽溅射靶材制备工艺进展一、引言高纯钽溅射靶材在半导体、光电子、电子工业等领域中具有非常广泛的应用，其制备技术对于相关领域的发展具有至关重要的作用。目前，随着科技的发展，人们对高性能、高质量的钽溅射