利用原子层沉积技术快速沉积氧化物薄膜的系统及方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 CN 110724936 A(43)申请公布日 2020.01.24(21)申请号 201810775384 .2(22)申
利用原子层沉积技术快速沉积氧化物薄膜的系统及方法