基于PSO-SVM模型的Cu CMP抛光液组分优化

基于PSO-SVM模型的Cu CMP抛光液组分优化基于PSO-SVM模型的Cu CMP抛光液组分优化摘要：铜化合物机械抛光（Cu CMP）作为一种在微电子工业中广泛应用的关键工艺，对于保证芯片表面质量