探究薄膜热力学应力对曝光误差的影响

探究薄膜热力学应力对曝光误差的影响   探究薄膜热力学应力对曝光误差的影响1 提出问题　　由于光波在曝光过程中存在干涉现象，会对光阻剂造成非预期的二次曝光。为解决二次曝光现象，半导体生产过程会在金属