2021年度光刻和刻蚀工艺讲义
- 图形曝光与刻蚀 - 图形曝光(lithography,又译光刻术)利用掩膜版(mask)上的几何图形,通过光化学反应,将图案转移到覆盖在半导体晶片上的感光薄膜层上(称为光致
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