干法刻蚀

刻蚀参数刻蚀速率刻蚀速率是指在刻蚀过程中去除硅片表面材料的速度，通常用Å/min表示。※Å：埃米，1埃米Angstrom =1/10000000000米（10的负10次方）。刻蚀速率=△T/t（