国产光刻胶，破晓而生，踏浪前行

1.光刻胶：图形转移介质，在泛半导体产业广泛应用光刻胶本质是一种感光材料，也称光致抗蚀剂，主要用于微电子技术中微细图形 加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下，光刻胶溶解度会发 生变化，