二元光学器件光刻掩模的设计与制作

二元光学器件光刻掩模的设计与制作二元光学器件是指基于光波衍射理论，利用计算机辅助设计，并用超大规模集成电路制作工艺，在片基或传统的光学器件表面上蚀刻产生多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、同轴再现、具