半导体工艺实验报告

离子注入：将加速到一定高能量的离子束注入固体材料表面层内，以改变表面层物理和化学性质的工艺。在半导体中注入相应的杂质原子（如在硅中注入硼、磷或砷等），可改变其表面电导率或形成PN结。离子注入掺杂的优点