西门子法生产多晶硅工艺流程简介

西门子法生产多晶硅工艺流程简介氢气制备与净化工序在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。电解制得的氢气经过冷却、 分离液体后，进入除氧器，在催化剂的作用下，氢气中的微量氧气与 氢气反应生成水而被除去。除氧后的

西门子法生产多晶硅工艺流程简介 1. 氢气制备与净化工序 在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。电解制得的氢气经过冷却、分 离液体后，进入除氧器，在催化剂的作用下，氢气中的微量氧气与氢气 反应生成水而被除去。除氧后的氢气通过一组吸附干燥器而被干燥。净 化干燥后的氢气送入氢气贮罐，然后送往氯化氢合成、三氯氢硅氢还 原、四氯化硅氢化工序。 电解制得的氧气经冷却、分离液体后，送入氧气贮罐。出氧气贮罐 的氧气送去装瓶。气液分离器排放废吸附剂，氢气脱氧器有废脱氧催化 剂排放，干燥器有废吸附剂排放，均由供货商回收再利用。 2. 氯化氢合成工序 从氢气制备与净化丄序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循 环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。出氢气缓冲罐的氢气 引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。从液氯汽化工序来的氯气经氯气缓冲 罐，也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。氢气与氯气的混合气体在燃 烧枪出口被点燃，经燃烧反应生成氯化氢气体。出合成炉的氯化氢气体 流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后,被送往三氯氢硅 合成工序。 为保证安全，本装置设置有一套主要由两台氯化氢降膜吸收器和两 套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的氯化氢气体吸收系统，可用水吸收因 装置负荷调整或紧急泄放而排出的氯化氢气体。该系统保持连续运转， 可随时接收并吸收装置排出的氯化氢气体。