冶金法低成本多晶硅的磷吸杂及其MIS太阳电池的探索
冶金法低成本多晶硅的磷吸杂及其MIS太阳电池的探索摘要多晶硅(mc-Si)是太阳电池制造中最为常见的材料。本文研究的是如何在低成本的情况下通过磷吸杂的方法来改善mc-Si的电学性能,并探讨磷吸杂后的m
MIS 冶金法低成本多晶硅的磷吸杂及其太阳电池的 探索 摘要 多晶硅(mc-Si)是太阳电池制造中最为常见的材料。本文研究的是 如何在低成本的情况下通过磷吸杂的方法来改善mc-Si的电学性能,并 探讨磷吸杂后的mc-Si在金属-绝缘体-半导体(MIS)太阳电池中的应 用。本研究发现,选择合适的磷源和制备条件可以极大地提高磷吸收效 率,并促进电荷载流子的迁移和扩散,从而提高太阳电池的性能。 关键词:多晶硅;磷吸杂;MIS太阳电池;电学性能 引言 太阳能作为一种可再生的清洁能源,受到了广泛的关注和研究。在 太阳电池制造中,多晶硅是最为常见的材料之一。然而,多晶硅的电学 性能相对较差,如载流子迁移率低、热激发载流子密度低等,限制了太 阳电池的效率。因此,提高多晶硅的电学性能一直是太阳电池研究的热 点和难点之一。 磷吸杂技术是一种常用的提高多晶硅电学性能的方法。它通过在多 晶硅中引入磷原子,使其成为n型半导体,从而增加载流子密度和迁移 率,提高太阳电池的效率。然而,磷吸杂的过程需要耗费较高的成本。 因此,如何在低成本的情况下进行磷吸杂成为了太阳电池研究中亟待解 决的问题。 本文以低成本的方法为出发点,利用氧化铝膜作为磷源,采用低温 快速热退火的方法进行磷吸杂处理,并研究了磷吸杂处理后的多晶硅在 MIS太阳电池中的应用。 材料和方法

