面向三维多栅器件的高K介质与金属栅工艺研究的中期报告

面向三维多栅器件的高K介质与金属栅工艺研究的中期报告本研究旨在探究面向三维多栅器件的高K介质与金属栅工艺，旨在提高器件性能和可靠性。本中期报告主要介绍了研究背景、工艺流程、结果分析和未来展望。一、研究