F1 Layout与masktooling简介

LAYOUT与MASK TOOLING简介作者：何松华一、概述在半导体集成电路的制造过程中，要进行多次光刻。光刻时需将硅片上的光刻胶做出与掩模版上完全对应的几何图形，以实现选择性扩散或金属膜布线的目的