因瓦合金箔的制备方法

因瓦合金箔的制备方法专利名称：因瓦合金箔的制备方法技术领域：本发明属于精密合金领域，亦即功能材料领域，涉及因瓦合金箔的制备方法。背景技术： 因瓦合金为铁镍合金，其中镍含量为35～37％(wt％)，由于

因瓦合金箔的制备方法 专利名称：因瓦合金箔的制备方法 技术领域： 本发明属于精密合金领域，亦即功能材料领域，涉及因瓦合金箔的制备方法。 背景技术： 因瓦合金为铁镍合金，其中镍含量为35～37％(wt％)，由于其磁性能好，柔 韧性好，且组织致密，已广泛用于精密仪器仪表、光学仪器和电子设备中的元 器件。 因瓦合金的制备方法已有多种，如冷塑性变形、溅射成膜、熔炼铸造、双辊超 急冷法等。然而与上述制备技术相比，电沉积法具有以下优点电沉积层有独特 的高密度和低孔隙；工艺上易通过改变参数、电解液成分等条件来控制材料的 化学成分；容易大量制备薄膜材料，有较高的生产率和很好的经济性；所需设 备投资相对较低。因此电沉积法是制备因瓦合金薄膜材料最有前途的一种方法。 在现有技术中，(《表面技术》2000年第25期中的“电镀镍及铁镍合金薄膜 的热膨胀研究”刘筱薇)和(MichelL，Trudean.NanocrystallineFeand Fe-RichedFe-NiThroughElectrodeposition.NanostructuredMaterials， 1999，1255～60)文献中均公开了电沉积法制备因瓦合金的方法，但上述方法 尚有不足之处，需要进一步完善，即金属离子浓度偏大，生产成本较高，电解 液性能不够稳定，抗氧化性较低，电沉积层硬度高、韧性差。 发明内容 本发明的目的在于提供一种电解液性能好、可操作性强、生产成本相对较低， 且电沉积层表面光亮平整、张应力小和韧性好的因瓦合金箔的制造方法，本发 明所述的因瓦合金，即镍含量为35～37％(wt％)的Fe-Ni合金。