基于光刻模型的OPC切分研究

基于光刻模型的OPC切分研究一、引言随着芯片尺寸的不断缩小，光刻技术在半导体制造中的地位越来越重要。然而，芯片尺寸的缩小带来了新的问题：由于光刻机的分辨能力限制，消除图形畸变问题变得越来越困难。沿着芯