碳化硅的化学气相沉积研究的综述报告

碳化硅的化学气相沉积研究的综述报告碳化硅（SiC）是一种重要的半导体材料，具有优异的电学、热学和机械性能，具有广泛的应用前景。通过化学气相沉积（CVD）方法制备碳化硅具有制备工艺简单、适用性广泛、制备