氢化硅表面分子功能化、金属化的理论研究及应用的开题报告

氢化硅表面分子功能化、金属化的理论研究及应用的开题报告1. 研究背景氢化硅（SiH）是一种重要的半导体材料，广泛应用于电子、光电子学、太阳能等领域。氢化硅表面化学处理技术是提高材料性能和开发新功能的重