光掩模在193nm波长光刻应用中生成雾状缺陷（haze）的预防

论文独创性声明 本论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果．沦文中 除了特别加以标注和致谢的地方外．不包含其他入或其它机构已经发表或撰写 过的研究成果．其他同志对本研究的启发和所做的贡献