锑化铟焦平面器件背面减薄后的表面处理方法研究

锑化铟焦平面器件背面减薄后的表面处理方法研究锑化铟焦平面器件是一种重要的微电子器件，其具有良好的稳定性、高传输速度和良好的量子效应等特点，是高性能微电子器件制备领域的重要研究方向。而焦平面器件的功效在