基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法

基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法摘要极紫外光刻技术作为下一代芯片制造的重要一环，其掩模的设计和制造具有关键性意义。在掩模制造过程中，衍射谱仿真是一个耗时且复杂的过程。基于改进型结构