化学机械研磨工艺中的铜腐蚀研究的开题报告

化学机械研磨工艺中的铜腐蚀研究的开题报告一、研究背景化学机械研磨（CMP）是制造微电子器件过程中必不可少的技术。随着芯片集成度的不断提高，多层金属线的制造也变得越来越重要。在制造多层金属线时，铜材料用