设备验收报告PECVD

设备验收报告设备名称型号规格数量/套验收范围PECVD1验收日期：年月日技术规格(详见附文)验收项目验收指标实测结果备注炉体温度稳定性±2℃/4hoursSiH4/NH3流量±1%*总量程系统极限真空

验收报告 设备 设备名称 型号规格 数量/套 验收范围 PECVD 1 验收日期：年月日 验收项目 验收指标 实测结果 备注 炉体温度稳定性 ±2℃/4hours SiH/NH流量 ±1%*总量程 43 系统极限真空度 5Pa(450℃,5min) 系统漏气率 3Pa/min 技术规格 工艺压力 ±5Pa (详见附 射频输出功率 ±100W 文) 单机产能 32min/批,168片/批 设备稳定性 一周稳定运行 工艺效果验证 膜厚均匀性:±5% 折射率:±3% 培训内容 培训对象(签字) 培训时间 备注 石英管拆装/清洗 培训 设备操作 日常维护/故障排查 类型 交接对象(签字) 交接时间 备注 使用说明书 资料交付 关键部件说明书 备品备件交接 验收结论：